プロセスフォトメータ
あらゆる産業における紫外線吸光度および近赤外線/可視光線吸光度のインライン測定用プロセスフォトメータ
プロセス温度
-10~+140 °C(14~284 °F)
プロセス圧力
空圧駆動式:1.6 MPa、最高140 °C(232 psi、最高284 °F)
手動駆動式:800 kPa、最高140 °C(116 psi、最高284 °F)
プロセス温度
0~60 °C(32~140 °F)
F
L
E
X
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標準的製品
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高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス
技術的卓越性
シンプルさ
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特殊仕様の製品
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要件の厳しいアプリケーション向けに設計
技術的卓越性
シンプルさ
FLEX セレクション |
技術的卓越性 |
シンプルさ |
Fundamental セレクション
基本的な測定要件に対応
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技術的卓越性
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シンプルさ
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技術的卓越性
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シンプルさ
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Extended セレクション
革新的な技術でプロセスを最適化
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技術的卓越性
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シンプルさ
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Xpert セレクション
最も困難なアプリケーションにも対応
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技術的卓越性
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シンプルさ
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保護等級
キャビネット機器:IP20衝撃保護
分離ディスプレイ:IP66
フィールド機器:IP66/67
プロセス温度
-15~+140 °C(5~280 °F)
プロセス圧力
1.6 MPa、最高140 °C(232 psi、最高284 °F)
プロセス温度
0~135 °C(32~275 °F)
プロセス圧力
最大絶対圧:1.1 MPa(159 psi)、25 °C(77 °F)時
プロセス温度
0~130 °C (32~194 °F)
プロセス圧力
最大 2 MPa (300 psi)。材質、口径、プロセス接続による。
測定範囲
0~3 AU
0~6 OD(光路長に応じて異なる)
プロセス温度
0~90 °C(32~194 °F)、連続
最高130 °C(266 °F)、2時間
プロセス圧力
最大絶対圧1 MPa(20 °C時)
(最大150 psi(68 °F時))
測定範囲
0~2.5 AU
0~50 OD(光路長に応じて異なる)
プロセス温度
0~90 °C(32~194 °F)、連続
最高130 °C(266 °F)、2時間
プロセス圧力
最大絶対圧10 MPa(1450 psi)
(流通ホルダに応じて異なる)
測定範囲
0~2.5 AU
プロセス温度
0~90 °C(32~194 °F)、連続
最高130 °C(266 °F)、2時間
プロセス圧力
最大10 MPa(1450 psi)
(流通ホルダに応じて異なる)
プロセスフォトメータ
製品ファインダは、製品特性による適切な測定デバイス、ソフトウェアまたはシステム製品の検索をサポートします、 Applicator(アプリケータ)は、アプリケーションパラメータによって製品選定をサポートします。
プロセスフォトメータについて
紫外線、近赤外線、可視光線吸収に対応するプロセスフォトメータは、正確かつ適合性のある濃度、色、濁度のインライン測定を実現します。サニタリデザインのため、色層分析、発酵、濾過、相分離、結晶化に最適です。高温および高圧に対して安定性があるため、熱交換器の凝縮液監視や漏れ検知においても安全に使用できます。
下の「製品ファインダへ」ボタンをクリックし、さらに「製品タイプ」等の製品フィルターで製品を絞り込むことで、プロセスフォトメータの幅広い製品ラインナップからご希望の製品をご覧いただけます。また、「Applicatorへ」をクリックいただくと製品選定ツールへアクセスいただけます。アプリケーションパラメータから製品を選定いただける他、産業毎のプロセス図から製品を選定いただくことも可能です。
プロセスフォトメータの選択方法
Endress+Hauserのプロセスフォトメータは、ライフサイエンス、製薬、食品/飲料、化学薬品、石油/ガスなどの多くの産業で使用されています。センサはアプリケーションに応じて選択されます。ニーズに応じて、光学センサの波長を選択してください。たとえば、細胞増殖測定には近赤外線吸光度、または色度測定には二波長が適しています。フィルタ制御の場合は、散乱光法を用いた濁度センサを選択し、危険場所用に認定を取得したプロセスフォトメータを使用してください。
吸光度測定
吸光度測定は、ランベルト・ベールの法則に基づく導入光と測定物の相互作用がベースになっています。光源が測定物を通して光信号を放ち、伝達された光信号はディテクタ側で測定されます。波長検出フィルタを通過した後、光ダイオードで光の強度が測定され、光電流に変換されます。
受け取った光の強度は、測定された物質の濃度と比例します。吸光単位(AU)または光学密度(OD)への最終的な変換は、変換器で行われます。
吸光度 = 導入光に対する光の減衰の測定
散乱光法による濁度測定
濁度測定の場合、光源から焦点を絞ったビームが測定物に照射されます。このビームは測定物内の粒子によって偏向され、散乱が発生します。レシーバで散乱光が測定され、濁度が特定されます。濁度が低い場合は、11°の前方散乱測定が適しています。散乱強度は、細かい粒子では低く、大きな粒子では高くなります。フィルタ破損を直ちに検知できることから、これは濾過監視のために非常に優れた方法です。
利点
- 紫外線、近赤外線、可視光線吸収および濁度に対応するプロセスフォトメータを使用したインライン測定は、時間のかかるラボでのサンプリングと測定に代わるものであり、製品の汚染を防止できます。
- Endress+Hauserのプロセスフォトメータは、1台のLiquiline CM44P変換器だけで容易にpH、導電率、または溶存酸素センサと組み合わせることが可能です。これにより、プロセス品質監視のための完璧なアプリケーションパッケージが完成します。
- シンプルな光学式の測定原理のため、分光光度計は試薬なしで機能し、他のパラメータに対する交差感度も低くなっています。
- エンドレスハウザーはNISTトレーサビリティが確保された、認定取得済みの校正フィルタを提供しており、これにより複雑な標準液校正の代替となり、メンテナンスが減少します。
- プロセスフォトメータの低体積流量セルにより、迅速な測定と最適な製品収量が保証されます。
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