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波長可変半導体レーザー(TDLAS)

レーザー式光学技術によるプロセスガスストリーム内の不純物検出と濃度測定により、プラントの安全性と効率を向上

TDLASは、プロセスガス中のppmレベルの低濃度不純物をオンラインかつリアルタイムで測定します。ガスプロセスやパイプライン内の水蒸気(H2O)、二酸化炭素(CO2)、硫化水素(H2S)などを測定するために、ガスプラント事業者によって広く使用されています。早い応答時間で正確かつ安定した測定が可能なTDLASにより、プラントの安全性、効率、および可用性を低コストで実現できます。

石油&ガス市場向けのエンクロージャ付きJT33 TDLAS H2Sアナライザ ©Endress+Hauser

JT33 TDLAS ガスアナライザ

3製品の写真:パネルに取り付けたJ22 TDLAS、エンクロージャボックス、J22ガスアナライザ ©Endress+Hauser

J22 TDLAS ガスアナライザ

お客様のガスプラントへのSS2100の設置、横から ©Endress+Hauser

設置済みの SS2100 TDLAS アナライザ

TDLASガスアナライザ、SS2100、SS2100I-1、H2Sの製品群の写真 ©Endress+Hauser

SS2100 と SS2100I-1 TDLAS アナライザ

SS500シングルチャンネルH2O、TDLASガスアナライザ、正面から ©Endress+Hauser

SS500 TDLAS アナライザ

利点

  • 安定して確実かつ非常に高速な測定が可能

  • パイプラインの腐食防止や爆発リスクの低減により、作業員の安全性およびアセット健全性を維持

  • シャットイン、フレアリング、およびガス移送の遮断を回避することで、プロセス効率およびプラントの可用性を向上

  • コンプレッサオイル、グリコール、メタノール、アミン、H2S、または水分を含むスラグによる干渉や悪影響を受けにくく、確実かつ継続的なガス移送を可能にするとともに、ガス移送時に発生する問題を排除

  • コンパクトかつメンテナンスの手間がかからないアナライザ設計が可能になり、全体的な所有コストを削減

Endress+Hauserは、TDLASアナライザを使用したプロセスガスストリーム内の分析対象分子濃度(たとえば、H2O、H2S、CO2 )の検出および測定技術を先駆的に開発してきました。この分野における当社の専門知識は、当社が取得した数々の特許によって裏付けられています。近年の半導体レーザーの進歩により、プロセスガスモニタアプリケーション向けTDLASは技術的にもコスト的にも実用性が高まっています。

  • シンプルな製品

  • 選定、設置、操作が簡単

技術的卓越性

シンプルさ

  • 標準的製品

  • 高い信頼性と堅牢性、容易なメンテナンス

技術的卓越性

シンプルさ

  • ハイエンド製品

  • 高性能で高い利便性

技術的卓越性

シンプルさ

  • 特殊仕様の製品

  • 要件の厳しいアプリケーション向けに設計

技術的卓越性

シンプルさ

高い柔軟性

FLEX セレクション 技術的卓越性 シンプルさ
  • F
  • L
  • E
  • X

Fundamental セレクション

基本的な測定要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
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Lean セレクション

コアプロセスの要件に対応

技術的卓越性
シンプルさ
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Extended セレクション

革新的な技術でプロセスを最適化

技術的卓越性
シンプルさ
  • F
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  • X

Xpert セレクション

最も困難なアプリケーションにも対応

技術的卓越性
シンプルさ

高い柔軟性

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    TDLAS analyzers for natural gas processing

    TDLAS analyzers for natural gas processing - accurate and reliable measurement

    TDLAS and QF analyzers technology guide

    TDLAS and QF analyzers technology guide - Principle of operation, configurations, and certification information